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它具有强碱性，在不超过分解点的温度下稳定。超过分解点时迅速分解为三甲胺和甲醇。当催化完毕后很容易除掉，不留任何残渣。对有机硅产品无污染。因此又称为“暂时催化剂”。四甲基氢氧化铵有一定的氨气味，具有强碱性，在有机硅方面，作为二甲基硅油，苯甲基硅油，有机硅扩散泵油，无溶剂有硅模塑料，有机硅树脂硅橡胶等的催化剂。在有机硅片生产中常用作计算机硅片面用光亮剂、清洗剂和触刻剂等。
1、作为集成电路（IC）行业、液晶显示器行业（TFT-LCD）、光电子(LED)行业的显影液。
TMAH是一种有机碱，一方面它和无机碱一样具有强碱性，另一方面它具有其独特的特性，即在使用过程中不会留下金属离子，加热后可以分解成三甲胺气体和甲醇气体且不留任何痕迹，可广泛应用于现代电子行业。显影液的主要成分是碱，原来使用的碱是无机碱KOH，随着科技的进步，集成电路的设计制造需满足各种复杂的工艺条件，对化学品杂质要求越来越苛刻。之前用的显影液是KOH等无机碱，显影后需要用大量的水进行冲洗基板，最终还不能保证K+ 能够彻底冲洗干净。金属离子的过度残留就无法满足一些苛刻的工艺条件，如单个制造单元中电子元器件的数量越来越多，线宽越来越窄，成为制约电子行业发展的一个不容忽视的瓶颈，而TMAH正好克服了KOH的缺点，无金属离子，高温分解无残留。
因此TMAH是目前使用最普遍且性能最优的显影液。已取代无机碱（KOH、NAOH）广泛用于集成电路（IC）行业、液晶显示器行业（TFT-LCD）、光电子行业。
2、清洗剂：PCB等电子行业清洗剂，TMAH具有良好的清洗效果且无残留。
3、工业用催化剂（相转移催化剂，可以帮助反应物从一相转移到能够发生反应的另一相当中，从而加快异相系统反应速率的一类催化剂。一般存在相转移催化的反应，都存在水溶液和有机溶剂两相，离子型反应物往往可溶于水相，不溶于有机相，而有机底物则可溶于有机溶剂之中。不存在相转移催化剂时，两相相互隔离，几个反应物无法接触，反应进行得很慢。相转移催化剂的存在，可以与水相中的离子所结合，并利用自身对有机溶剂的亲和性，将水相中的反应物转移到有机相中，促使反应发生）。
TMAH作为季铵碱，在有机硅、橡胶防老剂领域是一种高效催化剂。
危险性类别：
第8.2类碱性腐蚀品
侵入途径：
吸入、食入、经皮吸收
健康危害：
其主要的健康危害分成两部份，第一部份是OHˉ基，其特性为强碱与腐蚀性，健康危害效应为造成皮肤及黏膜组织灼伤；第二部份是TMA+基，其特性为类似毒螺类神经毒素，健康危害效应为抑制呼吸肌肉群，造成呼吸肌肉停止，心跳减缓，严重者导致脑部缺氧死亡。故吸入、食入或皮肤大面积与TMAH接触时，在15-30分钟内产生急性中毒，甚至呼吸停止死亡。